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精密热风循环烘箱在光刻过程中的应用

时间:2015-10-30 14:47:42 浏览量:

   小型烘箱的用途很广,在很多的实验中也都有用到,今天就讲一讲小型烘箱在光刻过程中的应用!

  1、涂层光刻胶

  在硅晶片表面的涂层中,将粘合剂或硅晶片放置在惰性气体中进行热处理。这个过程是为了增加光致抗蚀剂和硅晶片之间的粘附力,防止开发的时间和防止腐蚀的湿过程。

  使用胶的抗蚀剂。首先,用真空法把硅天花板在甩胶机上抽油,会有一定的粘性光致抗蚀剂的表面上的鬼,然后时间来设置的速度和旋转涂层。由于离心力,光致抗蚀剂的表面被均匀地分散,并除去多余的光致抗蚀剂,并获得了一定厚度的光刻胶膜。抗蚀剂的厚度控制的抗蚀剂的粘度和橡胶的速度!

  2、预干燥

  由于溶剂的抗蚀剂,在80摄氏度的硅晶片,涂有抗蚀剂是干的。微波炉是一种惰性气体,和干燥时间通常是15-30分钟从光刻胶去除剂。

  3、掩模对准

  由于集成电路制造的过程是一个逐层处理的过程,每个层的位置不能被移位,使掩模板和晶片可以在晶片上对准。

  4、曝光

  高压汞灯g线(436nm)或我行(波长365nm)照射在感光胶在硅片上的掩模,使光刻胶是从相同的光敏图案作为掩模图形得到!

  5、发展

  在将硅晶片暴露于特定的显影液中浸泡后,将所暴露的部分溶解,然后将图像复制到光致抗蚀剂上,显影液对显影液进行显影液!

  6、干燥后

  为了完全蒸发的残余的有机溶液中的光致抗蚀剂,提高粘接性能和抗腐蚀性能,硅晶片被放置在一个小炉120-200摄氏度,和硅晶片放置在温度为120度到200度的干燥20-30分钟。